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更新時間：2025-11-14 
瀏覽次數(shù)：31防塵防水型： 通常達到 IP防護等級，例如IP65或更高。這意味著它能完的全防止粉塵進入，并能承受來自各個方向的低壓水柱噴射。這對于半導(dǎo)體潔凈室環(huán)境或需要頻繁清潔的區(qū)域至關(guān)重要。
IP65含義： “6"代表完的全防塵；“5"代表防噴水。
重量級： 這有兩層含義：
指其稱量容量較大，通常在數(shù)公斤至數(shù)十公斤范圍，屬于大稱量精密天平。
也暗指其產(chǎn)品在行業(yè)內(nèi)的重要地位和高可靠性。
分銅內(nèi)藏型： 這是最關(guān)鍵的特性。“分銅" 在日語中就是 “砝碼" 的意思。“分銅內(nèi)藏型" 即指 “內(nèi)置校準砝碼" 。
功能： 天平內(nèi)部內(nèi)置了一個或多個高精度、機械驅(qū)動的標準砝碼。
操作： 用戶可以通過按鍵或定時功能，啟動天平的自動內(nèi)部校準。機械裝置會將內(nèi)置砝碼放下，對天平進行校準，完成后收回。
這種高等級天平在半導(dǎo)體工廠中主要用于對精度和可靠性要求極的高的環(huán)節(jié)：
化學(xué)溶液配制
應(yīng)用： 精確稱量光刻膠、CMP漿料、蝕刻液、清洗劑等高純度化學(xué)品的原料。
重要性： 溶液的濃度和配比直接影響光刻精度、蝕刻速率和晶圓表面質(zhì)量，稱量的微小誤差可能導(dǎo)致整批產(chǎn)品報廢。
CMP工藝
應(yīng)用： 稱量CMP漿料中的固體顆粒、氧化劑等關(guān)鍵組分。
重要性： 確保漿料的研磨率和選擇性，保證晶圓全局平坦化效果。
薄膜沉積（CVD/ALD）
應(yīng)用： 稱量某些前驅(qū)體化學(xué)品的重量，用于監(jiān)控使用情況或配制溶液。
重要性： 確保氣相沉積過程的穩(wěn)定性和薄膜質(zhì)量。
內(nèi)置校準砝碼 - 核心優(yōu)勢
確保測量溯源性與準確性： 內(nèi)置砝碼通?？勺匪葜羾H質(zhì)量標準（如NMIJ），確保校準的權(quán)的威性和準確性。
極的高的便利性與效率： 無需人工尋找、拿取外部砝碼，避免了砝碼污染、損壞和丟失的風(fēng)險?？梢砸绘I校準，或設(shè)定定時自動校準（如每4小時一次），確保天平始終處于最佳狀態(tài)。
維持潔凈室環(huán)境： 避免了外部砝碼帶入污染物，是維持潔凈室等級的關(guān)鍵設(shè)計。
高防護等級
防塵： 完的全防止稱量物品（如粉末、顆粒）進入天平內(nèi)部，保證長期穩(wěn)定運行。
防水： 耐受清潔時的化學(xué)品噴淋或酒精擦拭，便于進行徹的底的潔凈處理。
高精度與穩(wěn)定性
采用高質(zhì)量傳感器，具有良好的線性、重復(fù)性和溫度穩(wěn)定性，即使在環(huán)境略有波動時也能提供可靠數(shù)據(jù)。
針對地面振動和空氣流動等干擾進行了優(yōu)化設(shè)計。
符合法規(guī)與質(zhì)量控制要求
內(nèi)置校準功能、數(shù)據(jù)存儲和輸出接口，非常便于滿足GMP、ISO9001等質(zhì)量管理體系的要求，實現(xiàn)數(shù)據(jù)的完整性和可追溯性。
用戶友好設(shè)計
大型、清晰的顯示屏，便于讀取數(shù)據(jù)。
堅固耐用的外殼和稱量盤，適應(yīng)工業(yè)環(huán)境。
豐富的通信接口（如RS-232、以太網(wǎng)），可輕松連接打印機或?qū)嶒炇倚畔⒐芾硐到y(tǒng)。
我們可以將這三個日本儀器在半導(dǎo)體制造中的作用聯(lián)系起來看：
KEM S-AERD（放射率計）： 在 “研發(fā)與參數(shù)設(shè)定" 階段，負責(zé)測量材料的基礎(chǔ)物理屬性（發(fā)射率），為測溫提供輸入。
HORIBA IT-545（輻射溫度計）： 在 “工藝過程控制" 階段，作為產(chǎn)線的“眼睛"，實時監(jiān)測 最關(guān)鍵的過程變量——溫度。
A&D GX-L（電子天平）： 在 “原材料準備與質(zhì)量控制" 階段，作為精密的“秤"，精確測量 投入物料的質(zhì)量，確保配方準確。
總結(jié)
日本A&D的 GX-L系列“分銅內(nèi)藏型"電子天平 是半導(dǎo)體等高技術(shù)產(chǎn)業(yè)中物料稱量環(huán)節(jié)的可靠性基石。其內(nèi)置校準功能 和高防護等級 的設(shè)計，完的美地解決了半導(dǎo)體制造中對測量準確性、操作效率和潔凈室兼容性的極的致要求，是保障前端化學(xué)品制備質(zhì)量的關(guān)鍵設(shè)備。
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