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日本 CCS 165-SHU 超高高壓汞燈光源:半導(dǎo)體行業(yè)的“i-line 利器”

更新時(shí)間:2026-01-23      瀏覽次數(shù):12
在 365 nm 這一關(guān)鍵波段,日本 CCS 公司推出的 165-SHU 超高高壓汞燈光源正以“小體積、高亮度、低成本"的優(yōu)勢,成為 200 mm 以下晶圓、MEMS、功率器件及半導(dǎo)體晶圓電子封裝線的“性價(jià)比"曝光 本文結(jié)合產(chǎn)線案例,梳理其在半導(dǎo)體行業(yè)的三大應(yīng)用場景與技術(shù)亮點(diǎn)。

一、產(chǎn)品核心指標(biāo)

| 項(xiàng)目         | 規(guī)格                                      |

| ----         | --------------------------------------- |

| 燈管        | 165 W DC 超高壓水銀短弧燈(弧長 1 mm)              |

| 輻射強(qiáng)度 | 3 800 mW/cm2(φ5 mm 石英導(dǎo)光、距 10 mm、365 nm) |

| 光譜主峰 | 365 nm(i-line),次峰 405 nm、436 nm         |

| 壽命        | 2 000 h(衰減至 60 %)                       |

| 散熱        | 強(qiáng)制風(fēng)冷 + 熱斷路器雙重保護(hù)                         |

| 重量        | 5.5 kg,可桌面或 19'' 機(jī)架安裝                   |

短弧 1 mm 的設(shè)計(jì),使光學(xué)系統(tǒng)可將出光口聚焦到 <30 µm 光斑,為 2 µm 級(jí)線寬圖形提供了足夠的分辨率余量


二、半導(dǎo)體行業(yè)三大應(yīng)用

1. 光刻與圖形轉(zhuǎn)移

  • 應(yīng)用場景:功率芯片的鋁布線、MEMS 懸臂結(jié)構(gòu)、LED 電極 Pad 等“非關(guān)鍵層"曝光。
  • 方案優(yōu)勢:相比 DUV 掃描機(jī)臺(tái),165-SHU 曝光單元成本 <1/20,且無需高純氮?dú)猸h(huán)境;配合近接式或 1× 投影掩模,可在 3–5 µm 線寬段實(shí)現(xiàn) >150 片/小時(shí)產(chǎn)能
    。
  • 產(chǎn)線案例:中國臺(tái)灣 6 英寸 SiC MOS 工廠采用 4 套 165-SHU + 石英光纖束,完成源極/漏極對準(zhǔn)曝光,CD 3 µm,產(chǎn)能提升 18 %,設(shè)備回收期 8 個(gè)月。

2. UV 固化與電子封裝

  • 應(yīng)用場景:Flip-Chip 底部填充膠、BGA 封裝阻焊油墨、晶圓級(jí)封裝(WLP)臨時(shí)鍵合膠的快速固化。
  • 技術(shù)優(yōu)勢:365 nm 光子能量 3.4 eV,可深度激發(fā)丙烯酸酯與環(huán)氧系光敏膠;搭配 4 000 mW/cm2 峰值照度,5 秒即可達(dá)到 >90 % 轉(zhuǎn)化率,而傳統(tǒng) 100 W LED 點(diǎn)光源需 25 秒
  • 溫度控制:燈頭出風(fēng)口 <45 °C,避免熱敏元件(MEMS 薄膜、CMOS 濾光片)出現(xiàn)熱漂移。

3. 缺陷檢測與工藝監(jiān)控

  • 熒光激發(fā)檢測:365 nm 短波紫外可激發(fā)晶圓表面有機(jī)殘留(光刻膠、聚合物)產(chǎn)生 420–550 nm 熒光,結(jié)合 12-bit CCD 可在 0.3 µm 顆粒度下實(shí)現(xiàn) >95 % 捕獲率。
  • 掩模版潔凈度復(fù)核:離線掩模檢查機(jī)集成 165-SHU + 窄帶濾光片,利用 i-line 高對比度,可在 5 分鐘內(nèi)完成 6 英寸掩模全覆蓋掃描,替代傳統(tǒng)鹵素?zé)?+ 濾片方案,檢測效率提升 3×
    。

三、技術(shù)優(yōu)勢解讀

  1. “小弧長"帶來高分辨率
    200 atm 超高壓下,弧長被壓縮至 1 mm,相當(dāng)于點(diǎn)光源;配合非球面聚光鏡,數(shù)值孔徑 NA 0.25 即可在掩模面獲得 30 µm 光斑,滿足 2 µm 線寬曝光需求
    。
  2. 寬譜輸出,材料適配性高
    315–420 nm 連續(xù)譜線,可兼容 g-line(436 nm)傳統(tǒng)膠與 i-line(365 nm)高分辨膠,為工藝升級(jí)提供“一燈多用"可能。
  3. 低成本、低風(fēng)險(xiǎn)
    汞燈光學(xué)系統(tǒng)無需 CaF? 透鏡或高純氮?dú)?,整機(jī)維護(hù)僅需更換燈模塊與濾光片,單年運(yùn)營成本 <1/10 同波段 DUV 激光器。
  4. 即開即用,產(chǎn)線節(jié)拍友好
    電子穩(wěn)流電源預(yù)熱 90 s 可達(dá)光強(qiáng)穩(wěn)定,比金屬鹵素?zé)艨s短 50 %;內(nèi)置小時(shí)計(jì)數(shù)與電流監(jiān)控,方便預(yù)測性維護(hù)。

四、結(jié)語

當(dāng)節(jié)點(diǎn)不斷向 EUV 推進(jìn)時(shí),90 % 以上的“非關(guān)鍵層"仍需經(jīng)濟(jì)型 i-line 曝光。日本 CCS 165-SHU 以 3 800 mW/cm2 的 365 nm 峰值輻射、1 mm 短弧、風(fēng)冷一體化設(shè)計(jì),為 6 英寸及以下晶圓、MEMS、功率器件和MEMS封裝提供了兼具分辨率與成本的“光刻-固化-檢測"三合一解決方案,堪稱半導(dǎo)體后摩爾時(shí)代“性價(jià)比高的 i-line 光源"之一


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